透明导电薄膜制作工艺

透明导电薄膜作为一种具有低电阻和高透光率的薄膜材料，被应用于显示器，太阳能电池、抗静电涂层、带电防护膜等各种光电材料中。透明导电膜主要有金属膜和氧化物半导体膜两大类。

金属透明导电薄膜

由于金属薄膜中存在自由电子，因此在膜很薄时也具有很好的导电性，且在基片温度较低时就可制备出低电阻膜。常见的金属透明导电膜有金、银、铜、铂、铝铬和铑等导电膜。

氧化物半导体透明薄膜

这类导电膜主要有SnO2、In2O3、ZnO、CdO等，他们都是n型半导体。对这种导电膜要求禁宽度在约3eV以上，且通过掺杂可使其具有高的载流子浓度以得到高的导电率。目前，应用最广泛的是SnO2和In2O3薄膜。