pvd物理气相沉积原理

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pvd物理气相沉积原理

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    小悟空
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    原理如下所示:

    在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术, 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。

    2024-10-06 09:40:06 0条评论